高純?yōu)R射靶材主要是指純度為99.9%-99.9999%的金屬或非金屬靶材，應(yīng)用于電子元器件制造的物理氣象沉積工藝，是制備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。
    濺射鍍膜相比真空鍍膜工藝可重復(fù)性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結(jié)合力強等優(yōu)點，已成為制備薄膜材料的主要技術(shù)。
新思界產(chǎn)業(yè)研究中心發(fā)布的《2017-2021年中國靶材行業(yè)競爭格局與主要競爭對手分析報告》顯示，靶材主要用于集成電路、平板顯示器、太陽能電池、磁記錄媒體、光學(xué)器件等。其中，高純?yōu)R射靶材則主要用于對材料純度、穩(wěn)定性要求更高的領(lǐng)域，如集成電路、平板顯示器、太陽能電池、磁記錄媒體、智能玻璃等行業(yè)。
    在晶圓制造環(huán)節(jié)，靶材主要用于執(zhí)著晶圓導(dǎo)電層、阻擋層以及金屬柵極，而且在芯片封裝環(huán)節(jié)，靶材用來生成凸點下金屬層、布線層等金屬材料。由于濺射靶材的品質(zhì)直接影響導(dǎo)電層、阻擋層的均勻程度及性能，進而影響芯片傳輸速度及穩(wěn)定性，因此靶材是半導(dǎo)體生產(chǎn)的核心原材料之一。半導(dǎo)體芯片對濺射靶材的金屬材料純度、內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)等方面的標(biāo)準(zhǔn)極其苛刻。
    高純?yōu)R射靶材伴隨半導(dǎo)體工業(yè)的發(fā)展興起，其研發(fā)生產(chǎn)設(shè)備專用性強。高純?yōu)R射靶材生產(chǎn)企業(yè)分布和半導(dǎo)體工業(yè)高度相關(guān)，行業(yè)區(qū)域集中度較高。目前，全球濺射靶材研制和生產(chǎn)主要集中在美國、日本少數(shù)幾家公司。以霍尼韋爾（美國）、日礦金屬（日本）、東曹（日本）等跨國集團為代表的濺射靶材生產(chǎn)商占據(jù)主導(dǎo)地位。這些企業(yè)具備多年技術(shù)積淀、雄厚的技術(shù)力量、精細的生產(chǎn)控制和過硬的產(chǎn)品質(zhì)量，占據(jù)絕大部分市場份額。
    伴隨海外液晶平板市場向國內(nèi)轉(zhuǎn)移和國內(nèi)半導(dǎo)體材料市場的高速發(fā)展，作為兩條產(chǎn)業(yè)交點的靶極濺射材料同時受益于下游需求驅(qū)動，國內(nèi)靶材市場總空間超過150億元，以江豐電子為代表的高純靶材企業(yè)率先打破海外技術(shù)封鎖，實現(xiàn)進口替代，公司未來將在半導(dǎo)體、平板和光伏領(lǐng)域需求的共同驅(qū)動下迎來高速增長。新思界行業(yè)研究員表示，伴隨著中國靶材企業(yè)技術(shù)的不斷創(chuàng)新，本土靶材企業(yè)有望在細分領(lǐng)域內(nèi)和日美跨國集團競爭。