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濺射鍍膜系統

DM500磁控濺射系統

  • 系統主要參數:l 極限真空度:510-5Pa(清潔+烘烤去氣條件下12小時內獲得); l 抽真空時間:40分鐘內,510-4Pa;l 基片加熱溫度:600℃(碘鎢燈加熱);l 基片尺寸:Φ3inch的圓片;l 靶材尺寸:2寸或3寸;l 靶數量:4只;l 真空室尺寸:500500H450(根據實際情況可能會適當調整);l 基片架移動距離:50mm(軸向方向);l 靶軸線和基片旋轉軸線夾角:共濺射;l...
  • 產品詳情

系統主要參數:

l 極限真空度:≤5×10-5Pa(清潔+烘烤去氣條件下12小時內獲得);

l 抽真空時間:40分鐘內,≤5×10-4Pa;

l 基片加熱溫度:≤600℃(碘鎢燈加熱);

l 基片尺寸:≤Φ3inch的圓片;

l 靶材尺寸:2寸或3寸;

l 靶數量:4只;

l 真空室尺寸:500×500×H450(根據實際情況可能會適當調整);

l 基片架移動距離:≤50mm(軸向方向);

l 靶軸線和基片旋轉軸線夾角:共濺射;

l 氣路系統:4路進氣,其中1路為放氣使用;

系統主要配置說明

項目

規格及說明

濺射真空室

500×500×H450mm,尺寸根據設計要求適當調整,測開門

超高真空節流閥

DN250,電動控制,可選自動恒壓功能

分子泵

分子泵1600L/S

機械泵

BSV40旋片泵,兼起預抽泵和前級泵作用

擋板閥

DN40電磁擋板閥,預抽管道通斷

截止閥

6mm雙卡套接口電動截止閥

照明及烘烤裝置

烘烤選配

各型法蘭及觀察窗

DN16、35、63、100、200、250

不銹鋼管路、管接頭

各種規格精密不銹鋼管、波紋管、管接頭

數顯復合真空計

5227復合真空計或進口全量程規管可選

金屬裸規

ZJ52T,ZJ27 金屬接口

質量流量控制器

D07-7B質量流量控制器3套   

管路及接頭

配混氣室

截止閥

6mm雙卡套接口電動截止閥

進氣等控制接口

調壓閥電動控制,可反饋

轉動基片架

基片旋轉、基片架升降,基片偏壓可選

升降裝置

電動升降,帶位置顯示

濺射基片加熱裝置

≤600℃  加熱裝置選配

溫控電源

日本島電溫控,PID控溫

磁控濺射靶

4組一體式濺射靶,可選2寸或3寸,帶擋板

濺射電源

2臺500W直流電源和2臺500W自動匹配射頻電源

設備機架

分體式布局

水氣路系統

含冷卻水機

控制系統

標配觸摸屏自動控制


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