本系統為雙真空室結構，由一個進樣室和一個濺射沉積室組成。采用圓筒或方形結構形式。磁控濺射沉積室和進 樣室通過插板閥連接在一起，在沉積室中完成利用磁控濺射方法沉積單質膜、多層膜、混合物薄膜的過程。樣品可 以在沉積室不暴大氣條件下，通過進樣室送到濺射沉積室，從而避免沉積室的污染。濺射沉積室裝有 4inch 或2inch 磁控濺射靶3~5只，用以完成各種濺射過程。濺射靶采用一體式濺射靶,共焦濺射模式，自帶擋板系統，方便使用及維護。額外再預留一靶位。進樣室可以在不破壞濺射室真空度的條件下，完成向該真空室的進/取樣過程。可一次安裝直徑不大于120mm 的基片載體。
系統主要配置說明
項目 | 規格及說明 | |
鍍 膜 真 空 室 | 濺射真空室 | 500×500×H450mm，尺寸根據設計要求適當調整，測開門 |
超高真空節流閥 | DN250,電動控制,可選自動恒壓功能 | |
分子泵 | 分子泵1600L/S | |
機械泵 | BSV40旋片泵，兼起預抽泵和前級泵作用 | |
擋板閥 | DN40電磁擋板閥，預抽管道通斷 | |
截止閥 | 6mm雙卡套接口電動截止閥 | |
照明及烘烤裝置 | 烘烤選配 | |
各型法蘭及觀察窗 | DN16、35、63、100、200、250 | |
不銹鋼管路、管接頭 | 各種規格精密不銹鋼管、波紋管、管接頭 | |
真 空 測 量 與 進 氣 | 數顯復合真空計 | 5227復合真空計或進口全量程規管可選 |
金屬裸規 | ZJ52T，ZJ27 金屬接口 | |
質量流量控制器 | D07-7B質量流量控制器3套 | |
管路及接頭 | 配混氣室 | |
截止閥 | 6mm雙卡套接口電動截止閥 | |
進氣等控制接口 | 調壓閥電動控制，可反饋 | |
樣 品 架 | 轉動基片架 | 基片旋轉、基片架升降，基片偏壓可選 |
升降裝置 | 電動升降，帶位置顯示 | |
濺射基片加熱裝置 | ≤600℃ 加熱裝置選配 | |
溫控電源 | 日本島電溫控，PID控溫 | |
濺 射 系 統 | 磁控濺射靶 | 4組一體式濺射靶，可選2寸或3寸，帶擋板 |
濺射電源 | 2臺500W直流電源和2臺500W自動匹配射頻電源 | |
設備機架 | 分體式布局 | |
水氣路系統 | 含冷卻水機 | |
控制系統 | 標配觸摸屏自動控制 | |
樣 品 室 組 件 | 進樣室 | DN250×300mm，尺寸根據設計要求適當調整，水平或立式可選， |
進樣室抽氣系統 | 110L/S分子泵+4L機械泵 | |
主閥 | DN100氣動擋板閥或插板閥 | |
截止閥 | KF25電磁擋板閥 | |
腔體過度閥 | DN150接口氣動插板閥，控制鍍膜室與樣品室隔離 | |
送樣桿 | 采用磁力驅動或波紋管電動驅動 | |
樣品庫 | 最大放置直徑120mm樣品，6件，選配 | |
真空測量 | 5227復合真空計或進口全量程規管可選 | |
清洗與退火 | 可實現鍍膜前等離子體清洗，鍍膜后退火處理，選配 | |
進氣系統 | D07-7B質量流量控制器1套，選配 | |
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