

該超高真空磁控濺射鍍膜機的基本參數如下:
l 鍍膜室極限真空:≤3×10-5Pa;
l 抽氣時間:30分鐘內優于8×10-4Pa;
l 真空室尺寸:450mm×H350mm,真空室采用不銹鋼加工而成,配玻璃觀察窗,側門可開啟;最大可鍍300×300mm方片;
l 靶尺寸、數量:2只70*350mm永磁靶。靶材尺寸:70×350×5mm;
l 靶基距可調(40~80mm);
l 反濺清洗與偏壓:偏壓-800V,可滿足反濺清洗;
l 主機尺寸:長1060mm×寬600mm×高1600mm;(根據需要,尺寸會適當調整)
l 氣體種類:工作氣體Ar+反應氣體;
0551-68859919