該超高真空磁控濺射鍍膜機的基本參數如下：
l 鍍膜室極限真空：≤6×10-5Pa；
l 抽氣時間：30分鐘內優于8×10-4Pa；
l 真空室尺寸：300mm×300mm×H400mm，真空室采用不銹鋼加工而成，配玻璃觀察窗；
l 靶尺寸、數量：2只φ50mm永磁靶（一體式）；
l 濺射電源：2臺500W數字式直流濺射電源；
l 壓力控制，配備薄膜規與電動蝶閥實現恒壓控制；
l 水平移動距離0~80mm，配隔離板避免運動過程中掉渣；
l 熱壓系統：下基片加熱溫度：0~600℃連續可調。上板氣動控制下壓；
l 主機尺寸：長1060mm×寬600mm×高1600mm；（根據需要，尺寸會適當調整）
l 氣體種類：2路質量流量控制器，2路進氣；
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